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熱固化型絕緣增層膜
NX04H, NQ07XP

什么是絕緣增層膜

什么是絕緣增層膜

絕緣增層膜是一種用于先進(jìn)IC封裝基板上形成微細(xì)布線層的層間絕緣材料。隨著電子器件的高速化,IC封裝基板也需要應(yīng)對(duì)更高的信號(hào)傳輸速度和高性能化,因此呈現(xiàn)出高密度化趨勢(shì)。除了要求優(yōu)異的微細(xì)通孔成形性與低介電特性外,加工及組裝過(guò)程中的翹曲抑制(尺寸穩(wěn)定性)也變得尤為重要。此類先進(jìn)IC封裝基板已廣泛應(yīng)用于AI、服務(wù)器、網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域,絕緣增層膜作為支撐高性能、高可靠電子器件實(shí)現(xiàn)的關(guān)鍵材料,其重要性日益凸顯。

特點(diǎn)

積水化學(xué)的絕緣增層膜積水化學(xué)的絕緣增層膜兼具優(yōu)異的傳輸特性與尺寸穩(wěn)定性,已在高層數(shù)、大尺寸的高端IC封裝基板(FC-BGA)中獲得廣泛采用。憑借低介電常數(shù)與優(yōu)異的翹曲控制性能,該材料能夠提高封裝設(shè)計(jì)的自由度,助力下一代電子器件的高性能化與高可靠性。

  • 抑制基板
    翹曲
  • 低傳輸損耗
  • 對(duì)應(yīng)FLS
  • 良好的
    嵌入性

積水化學(xué)的優(yōu)勢(shì)

積水化學(xué)的絕緣增層膜憑借獨(dú)特的配方與涂布技術(shù),實(shí)現(xiàn)了低介電損耗(低Df)、去污蝕(Desmear)后的表面粗糙度均一以及優(yōu)異的抗裂性能。這些特性共同助力實(shí)現(xiàn)低傳輸損耗、微細(xì)布線適配及良率提升,滿足下一代高端封裝基板的嚴(yán)苛要求。

支持精細(xì)圖形(Fine Pattern)

High-Resolution Resist Pattern

BUF: QX / SEKISUI CHEMICAL Co., Ltd.
DFR: DA Series / Asahi Kasei Corp.
Exposure: DI Exposure / ADTEC Engineering Co., Ltd.

成形具備優(yōu)異的填充性與空洞抑制性能

X-Z Profile After Lamination

低應(yīng)力設(shè)計(jì),有效抑制分層與基板翹曲

Pad Wall Cross-section
Stress Simulation After Reflow

此外,積水化學(xué)充分發(fā)揮其多年積累的膠帶制造技術(shù)優(yōu)勢(shì),能夠靈活應(yīng)對(duì)多種厚度需求也是一大特色。通常提供20~100 μm厚度(以2.5 μm為間隔)的產(chǎn)品,如需其他厚度規(guī)格,歡迎聯(lián)系我們洽詢。

我們絕緣增層膜的客戶

產(chǎn)品系列

For FCBGA For Embedded
NX04H NQ07XP QX03 EL TC HE
HVM Sampling Development Development
Df @5.8GHz 0.0090 0.0037 0.0023 ≦0.0025 0.0084 0.0050
Dk @5.8GHz 3.3 3.3 3.3 ≦2.5 3.4 5
CTE (25-150℃) ppm/℃ 24.5 27 17 17-23 13 20
Tg (DMA) 205 183 183 > 170 206 170
Young’s Modulus GPa 8 10.4 13.1 > 7 12.3 20
Elongation % 2.4 2.6 2.9 > 1.5 1.2 1.2
Tensile Strength MPa 100 105 110 > 70 102 90
Thermal Conductivity W/m K 0.5 0.5 0.6 > 0.3 0.6 2.0

應(yīng)用范例

積水化學(xué)的絕緣增層膜已被應(yīng)用于執(zhí)行最先進(jìn)通信與運(yùn)算處理的IC封裝基板,在以下領(lǐng)域中得到廣泛使用。

AI處理
模塊
具備應(yīng)對(duì)GPU及AI芯片高發(fā)熱、高密度布線要求的熱穩(wěn)定性與加工適應(yīng)性。
數(shù)據(jù)中心
服務(wù)器
以優(yōu)異的介電特性與耐久性,助力高端服務(wù)器電路實(shí)現(xiàn)高可靠性的大規(guī)模數(shù)據(jù)處理。
以太網(wǎng)
交換機(jī)
憑借高速信號(hào)傳輸性能與穩(wěn)定品質(zhì),在支撐5G與云計(jì)算的網(wǎng)絡(luò)設(shè)備領(lǐng)域擁有全球范圍的采用實(shí)績(jī)。
高性能PC與
工作站
在日益復(fù)雜、多層化的高性能計(jì)算設(shè)備中,實(shí)現(xiàn)信號(hào)品質(zhì)與制造效率的平衡優(yōu)化。

使用流程

積水的絕緣增層膜是全行業(yè)中既能夠?qū)?yīng)半加成法(SAP)工藝,并擁有大量量產(chǎn)實(shí)績(jī)的替代選擇。
大多的主要日臺(tái)IC載板廠商以及封測(cè)廠(OSAT)都和積水在絕緣增層膜上擁有廣泛的合作。

Semi-Additive Process (SAP)

若您需要詳細(xì)的半加成法(SAP)工藝參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系我們。

期待您的洽詢

積水 正在開(kāi)發(fā)一種新的熱固化型絕緣增層膜,
它將成為未來(lái)高速通信所需的各種技術(shù)問(wèn)題的解決方案。

  • ?希望提升高端服務(wù)器電路的可靠性
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